光譜與光源性能

善施科技平行光化學反應儀AF3覆蓋250-975nm寬光譜范圍，涵蓋紫外、可見光及近紅外區(qū)域，可滿足光催化、光氧化、光還原等多類型反應需求。其光源功率支持每通道0-15W獨立調節(jié)，光強高達1000mW/cm2，且光衰率低于5%/年，確保長期使用穩(wěn)定性。例如，在光催化材料性能測試中，高強度光照可加速反應進程，而低光衰特性則保障了實驗數據的可重復性。

溫控與攪拌系統

設備采用液冷控溫技術，溫控范圍-20℃至80℃，溫度波動范圍±2℃，可精準抵消光源熱效應，避免室溫波動對反應的影響。內置磁力攪拌系統支持300-2500RPM轉速調節(jié)，確保非均相體系充分混合，適用于藥物中間體合成等需要均勻反應條件的場景。

模塊化與高通量設計

AF3支持10個獨立反應位點，兼容2-50mL反應管，并可定制其他尺寸，滿足高通量實驗需求。其模塊化設計允許光源、溫控等組件獨立更換，降低維護成本。例如，用戶可根據實驗需求快速更換365nm、405nm等波長光源，提升設備利用率。